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Dispositivi Elettronici

Trasporto nei semiconduttori: deriva, diffusione e ricombinazione

Mobilità e corrente di deriva, resistività, diffusione e legge di Fick, relazione di Einstein con dimostrazione, tempo di vita, LED, equazione di continuità e lunghezza di diffusione.

Sapere quanti portatori ci sono non basta: per calcolare una corrente bisogna sapere come si muovono. In un semiconduttore si muovono in due modi: trascinati da un campo elettrico (deriva) o spinti da una differenza di concentrazione (diffusione). Il funzionamento di diodi e transistor si capisce proprio dalla competizione tra questi due meccanismi e dalla ricombinazione.

La corrente di deriva

Un elettrone libero, sotto un campo E, accelera ma urta continuamente il reticolo vibrante e le impurità: in media raggiunge una velocità di deriva proporzionale al campo,

    \[ v_n = -\mu_n E,\qquad v_p = \mu_p E \]

dove \mu è la mobilità. Nel silicio poco drogato \mu_n \approx 1350 cm²/(V·s) e \mu_p \approx 480 cm²/(V·s): le lacune sono quasi tre volte più lente, ed è uno dei motivi per cui nei circuiti si preferiscono i transistor a canale n. La densità di corrente totale è

    \[ J_{drift} = q\,(n\mu_n + p\mu_p)\,E = \sigma E \]

che è la legge di Ohm in forma locale, con conducibilità \sigma = q(n\mu_n + p\mu_p).

Esempio. Silicio intrinseco: \rho = 1/\sigma = 1/(1{,}6\cdot 10^{-19}\cdot 10^{10}\cdot 1830) \approx 3{,}4\cdot 10^5 Ω·cm. Con N_D = 10^{16} cm⁻³: \rho = 1/(1{,}6\cdot 10^{-19}\cdot 10^{16}\cdot 1350) \approx 0{,}46 Ω·cm, quasi un milione di volte meno. Il rame ha 1{,}7\cdot 10^{-6} Ω·cm.

A campi forti (sopra 10^4 V/cm circa) la velocità non cresce più e satura a circa 10^7 cm/s: è quello che limita la velocità dei transistor più piccoli.

La corrente di diffusione

Se i portatori sono più concentrati da una parte, il loro moto casuale li porta in media verso la zona meno concentrata, come una goccia di inchiostro nell’acqua. Il flusso è proporzionale al gradiente (legge di Fick):

    \[ J_{n,diff} = q D_n\frac{dn}{dx},\qquad J_{p,diff} = -q D_p\frac{dp}{dx} \]

D è il coefficiente di diffusione. I segni sono diversi perché le cariche sono opposte: elettroni e lacune diffondono entrambi verso la concentrazione minore, ma la corrente delle lacune ha il verso del loro moto, quella degli elettroni il verso opposto.

La relazione di Einstein

Mobilità e diffusione non sono indipendenti: entrambe dipendono dagli urti con il reticolo.

Teorema (relazione di Einstein).

    \[ \frac{D_n}{\mu_n} = \frac{D_p}{\mu_p} = \frac{kT}{q} = V_T \]

Dimostrazione. Si consideri un semiconduttore all’equilibrio con drogaggio non uniforme. Gli elettroni diffondono e creano un campo E = -dV/dx, e all’equilibrio la corrente totale di elettroni è nulla:

    \[ q n\mu_n E + qD_n\frac{dn}{dx} = 0 \]

All’equilibrio la concentrazione segue la statistica di Boltzmann, n = n_0\,e^{V/V_T} (gli elettroni si accumulano dove il potenziale è più alto), quindi \frac{dn}{dx} = \frac{n}{V_T}\frac{dV}{dx} = -\frac{n}{V_T}E. Sostituendo: qn E(\mu_n - D_n/V_T) = 0, cioè D_n = \mu_n V_T. Lo stesso ragionamento vale per le lacune. ∎

A 300 K V_T = 25{,}9 mV, la tensione termica, che comparirà in tutte le formule di diodi e transistor. Per gli elettroni nel silicio D_n = 1350\cdot 0{,}0259 \approx 35 cm²/s.

Generazione, ricombinazione e tempo di vita

Se si iniettano portatori in eccesso (con la luce o attraverso una giunzione), la legge np = n_i^2 non vale più e il sistema torna all’equilibrio per ricombinazione. Per i minoritari in eccesso \Delta p in un tipo n, la velocità di ricombinazione è \Delta p/\tau_p, dove \tau_p è il tempo di vita: da nanosecondi a millisecondi, a seconda della purezza del cristallo.

Nel silicio la ricombinazione avviene quasi sempre attraverso difetti e impurità (livelli in mezzo al gap) e libera calore. Nei semiconduttori a gap diretto come l’arseniuro di gallio e il nitruro di gallio, invece, elettrone e lacuna si ricombinano direttamente emettendo un fotone di energia circa E_g: è il principio dei LED e dei laser. Il colore dipende dal gap: \lambda \approx 1240/E_g nm con E_g in eV.

L’equazione di continuità e la lunghezza di diffusione

Il bilancio dei minoritari in un volumetto dice che la loro concentrazione cambia per la corrente che entra o esce e per la ricombinazione:

    \[ \frac{\partial \Delta p}{\partial t} = D_p\frac{\partial^2 \Delta p}{\partial x^2} - \frac{\Delta p}{\tau_p} \]

(senza campo e senza generazione). In regime stazionario, con un eccesso \Delta p_0 mantenuto in x = 0, la soluzione che si annulla lontano è

    \[ \Delta p(x) = \Delta p_0\,e^{-x/L_p},\qquad L_p = \sqrt{D_p\tau_p} \]

Profilo esponenziale dei portatori minoritari in eccesso che diffondono e si ricombinano
L’eccesso di lacune iniettato in x = 0 diffonde verso destra e si ricombina strada facendo: la concentrazione decresce in modo esponenziale e a una lunghezza di diffusione si è ridotta di un fattore e. La tangente nell’origine incontra l’asse proprio in L_p.

La lunghezza di diffusione L_p è la distanza media percorsa da un minoritario prima di ricombinarsi: con D_p = 12 cm²/s e \tau_p = 1 µs, L_p \approx 35 µm. Questo numero decide la geometria dei dispositivi: nel transistor bipolare la base deve essere molto più sottile di L, perché i portatori la attraversino senza perdersi.

Il quadro completo

Mettendo insieme deriva e diffusione:

    \[ J_n = qn\mu_n E + qD_n\frac{dn}{dx},\qquad J_p = qp\mu_p E - qD_p\frac{dp}{dx} \]

Queste due equazioni, con l’equazione di continuità e l’equazione di Poisson per il campo, sono il modello con cui i simulatori calcolano qualsiasi dispositivo a semiconduttore. Nelle prossime lezioni le applichiamo a mano ai casi più importanti: la giunzione pn, il diodo, il transistor bipolare e il MOSFET.

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